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IC光刻設(shè)備、FPD曝光設(shè)備
- 分類:IC裝備及紅外光學(xué)
- 發(fā)布時間:2020-05-25 00:00:00
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概要:匯博光學(xué)制造的精密紫外光學(xué)薄膜器件均采用高能離子輔助沉積工藝,可以耐受400℃以上的高溫且性能穩(wěn)定。
詳情
IC半導(dǎo)體光刻設(shè)備及FPD平面顯示器曝光設(shè)備中使用的精密光學(xué)薄膜器件對光學(xué)鏡面精度和光譜反射效率、耐用性有極苛刻的使用要求。光源長時間不間斷工作,紫外線的輻射損傷對反射鏡的膜層壽命要求高。匯博光學(xué)制造的精密紫外光學(xué)薄膜器件均采用高能離子輔助沉積工藝,可以耐受400℃以上的高溫且性能穩(wěn)定。
產(chǎn)品類型:大尺寸橢球反射鏡、45°平面反射鏡、介質(zhì)膜反射鏡、鋁增強反射鏡、365nm通帶濾光片、截止濾光片、分色鏡、光配向反射鏡。
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